Assessment of Trapping Phenomena in As‐Grown and Thermally‐Treated Si‐Doped κ‐Ga2O3 Layers via Optical Admittance Spectroscopy / Rajabi Kalvani, Payam; Parisini, Antonella; Pavesi, Maura; Mattei, Francesco; Mazzolini, Piero; Egbo, Kingsley; Bierwagen, Oliver; Moumen, Abderrahim; Vantaggio, Salvatore; Shapouri, Samaneh; Bosi, Matteo; Seravalli, Luca; Fornari, Roberto. - In: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS. - ISSN 2199-160X. - (2025). [10.1002/aelm.202500072]

Assessment of Trapping Phenomena in As‐Grown and Thermally‐Treated Si‐Doped κ‐Ga2O3 Layers via Optical Admittance Spectroscopy

Rajabi Kalvani, Payam;Parisini, Antonella;Pavesi, Maura;Mattei, Francesco;Mazzolini, Piero;Moumen, Abderrahim;Vantaggio, Salvatore;Shapouri, Samaneh;Bosi, Matteo;Fornari, Roberto
2025-01-01

2025
Assessment of Trapping Phenomena in As‐Grown and Thermally‐Treated Si‐Doped κ‐Ga2O3 Layers via Optical Admittance Spectroscopy / Rajabi Kalvani, Payam; Parisini, Antonella; Pavesi, Maura; Mattei, Francesco; Mazzolini, Piero; Egbo, Kingsley; Bierwagen, Oliver; Moumen, Abderrahim; Vantaggio, Salvatore; Shapouri, Samaneh; Bosi, Matteo; Seravalli, Luca; Fornari, Roberto. - In: ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS. - ISSN 2199-160X. - (2025). [10.1002/aelm.202500072]
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11381/3027457
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus 1
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? 0
social impact