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This study shows that, after annealing at 1950°C, a 1×1020 cm-3 Al+ implanted 4H-SiC material shows a decreasing resistivity with increasing annealing time in the range 5-25 min. After this, the resistivity remains constant up to an annealing time of 40 min. The estimated minimum time to gain the thermal equilibrium in this implanted material at 1950°C is 12 min. Electrical characterization has been performed in the 20-680 K temperature range.
1950°C annealing of Al+ implanted 4H-SiC: Sheet resistance dependence on the annealing time / Nipoti, Roberta; Parisini, Antonella; Vantaggio, Salvatore; Alfieri, Giovanni; Carnera, Alberto; Centurioni, Emanuele; Elmi, Ivan; Grossner, Ulrike. - STAMPA. - 858:(2016), pp. 523-526. (Intervento presentato al convegno 16th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, ICSCRM 2015 tenutosi a ita nel 2015) [10.4028/www.scientific.net/MSF.858.523].
1950°C annealing of Al+ implanted 4H-SiC: Sheet resistance dependence on the annealing time
This study shows that, after annealing at 1950°C, a 1×1020 cm-3 Al+ implanted 4H-SiC material shows a decreasing resistivity with increasing annealing time in the range 5-25 min. After this, the resistivity remains constant up to an annealing time of 40 min. The estimated minimum time to gain the thermal equilibrium in this implanted material at 1950°C is 12 min. Electrical characterization has been performed in the 20-680 K temperature range.
1950°C annealing of Al+ implanted 4H-SiC: Sheet resistance dependence on the annealing time / Nipoti, Roberta; Parisini, Antonella; Vantaggio, Salvatore; Alfieri, Giovanni; Carnera, Alberto; Centurioni, Emanuele; Elmi, Ivan; Grossner, Ulrike. - STAMPA. - 858:(2016), pp. 523-526. (Intervento presentato al convegno 16th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, ICSCRM 2015 tenutosi a ita nel 2015) [10.4028/www.scientific.net/MSF.858.523].
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Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: https://hdl.handle.net/11381/2814671
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simulazione ASN
Il report seguente simula gli indicatori relativi alla propria produzione scientifica in relazione alle soglie ASN 2023-2025 del proprio SC/SSD. Si ricorda che il superamento dei valori soglia (almeno 2 su 3) è requisito necessario ma non sufficiente al conseguimento dell'abilitazione. La simulazione si basa sui dati IRIS e sugli indicatori bibliometrici alla data indicata e non tiene conto di eventuali periodi di congedo obbligatorio, che in sede di domanda ASN danno diritto a incrementi percentuali dei valori. La simulazione può differire dall'esito di un’eventuale domanda ASN sia per errori di catalogazione e/o dati mancanti in IRIS, sia per la variabilità dei dati bibliometrici nel tempo. Si consideri che Anvur calcola i valori degli indicatori all'ultima data utile per la presentazione delle domande.
La presente simulazione è stata realizzata sulla base delle specifiche raccolte sul tavolo ER del Focus Group IRIS coordinato dall’Università di Modena e Reggio Emilia e delle regole riportate nel DM 589/2018 e allegata Tabella A. Cineca, l’Università di Modena e Reggio Emilia e il Focus Group IRIS non si assumono alcuna responsabilità in merito all’uso che il diretto interessato o terzi faranno della simulazione. Si specifica inoltre che la simulazione contiene calcoli effettuati con dati e algoritmi di pubblico dominio e deve quindi essere considerata come un mero ausilio al calcolo svolgibile manualmente o con strumenti equivalenti.
