High-temperature crystallization and X-ray characterization of Y2SiO5, Y2Si2O7 and LaBSiO5 / N.I. Leonyuk;E.L. Belokoneva;G. Bocelli;L. Righi;E.V. Shvanskii;R.V. Henrykhson;N.V. Kulman;D.E. Kozhbakhteeva. - In: JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. - ISSN 0022-0248. - 205(1999), pp. 361-367. [10.1016/S0022-0248(99)00233-X]

High-temperature crystallization and X-ray characterization of Y2SiO5, Y2Si2O7 and LaBSiO5

RIGHI, Lara;
1999

High-temperature crystallization and X-ray characterization of Y2SiO5, Y2Si2O7 and LaBSiO5 / N.I. Leonyuk;E.L. Belokoneva;G. Bocelli;L. Righi;E.V. Shvanskii;R.V. Henrykhson;N.V. Kulman;D.E. Kozhbakhteeva. - In: JOURNAL OF CRYSTAL GROWTH. - ISSN 0022-0248. - 205(1999), pp. 361-367. [10.1016/S0022-0248(99)00233-X]
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.

I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.

Utilizza questo identificativo per citare o creare un link a questo documento: http://hdl.handle.net/11381/2456870
Citazioni
  • ???jsp.display-item.citation.pmc??? ND
  • Scopus ND
  • ???jsp.display-item.citation.isi??? ND
social impact