Chemical and compositional changes induced by N+ implantation in amorphous SiC films / N., Laidani; M., Bonelli; A., Miotello; L., Calliari; M., Elena; R., Bertoncello; A., Glisenti; Capelletti, Rosanna; P. M., Ossi. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 74:(1993), pp. 2013-2020.
Chemical and compositional changes induced by N+ implantation in amorphous SiC films
CAPELLETTI, Rosanna;
1993-01-01
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