Phase formation and stability of N+ implanted SiC thin films / Capelletti, Rosanna; A., Miotello; P. M., Ossi. - In: JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. - ISSN 0021-8979. - 81:(1997), pp. 146-149.
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.