Are High Resolution Resistometric Methods Really Useful for the Early Detection of Electromigration Damage / A., Scorzoni; S., Franceschini; R., Balboni; M., Impronta; DE MUNARI, Ilaria; F., Fantini. - In: MICROELECTRONICS RELIABILITY. - ISSN 0026-2714. - 37, No. 10/11:(1997), pp. 1479-1482. [10.1016/S0026-2714(97)00090-5]
Are High Resolution Resistometric Methods Really Useful for the Early Detection of Electromigration Damage
DE MUNARI, Ilaria;
1997-01-01
File in questo prodotto:
Non ci sono file associati a questo prodotto.
I documenti in IRIS sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.