High-sensitive ultrathin negative electron beam resist based on Langmuir-Blodgett films of polycyanoacrylate / D., Pisignano; T., Berzina; V., Erokhin; Fontana, Marco Paolo; A., DELLA TORRE; P., Visconti; R., Rinaldi. - In: JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. PART 1, REGULAR PAPERS & SHORT NOTES. - ISSN 0021-4922. - 43:(2004), pp. 3984-3985.
High-sensitive ultrathin negative electron beam resist based on Langmuir-Blodgett films of polycyanoacrylate
FONTANA, Marco Paolo;
2004-01-01
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